1、基本參數：
2、行業：半導體
3、用途：用于清洗鋁件、不銹鋼件、陶瓷表面灰塵、油污。
4、設備：要由超聲波發生器、換能器、清洗槽、漂洗槽、儲液副槽、高壓噴淋系統、溢流系統、過濾循環系統、加熱系統、機架、門板和控制系統等組成。
5、清洗流程：手動上料→水劑+清洗液超聲波過濾粗洗→水劑超聲波溢流漂洗→高壓水劑噴淋沖洗→手動出料
6、特點：通過多種清洗工藝，對鋁件、不銹鋼件、陶瓷進行高潔凈的清洗并對工件不產生損傷及氧化。
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